Nauka i technologia źródeł plazmy

Nauka i technologia źródeł plazmy
Język język angielski
Edytowany przez Ja Adamowicz
Szczegóły publikacji
Historia 1992-obecnie
Wydawca
Wydawnictwo IOP (Wielka Brytania)
Częstotliwość 12
3,584 (2020)
Standardowe skróty
ISO4 Źródła plazmy Sci. Techn.
Indeksowanie
ISSN
0963-0252 (druk) 1361-6595 (internet)
Linki do

Plasma Sources Science and Technology to międzynarodowe czasopismo poświęcone wyłącznie niefuzyjnym aspektom nauki o plazmie .

Czasopismo jest indeksowane w bazach Scopus , INSPEC Information Services, ISI (SciSearch, ISI Alerting Services, Current Contents/Physical, Chemical and Earth Sciences), Chemical Abstracts , INIS Atomindex ( International Nuclear Information System ), NASA Astrophysics Data System , Baza danych PASCAL, Artykuł@ INIST , Engineering Index/Ei Compendex , Cambridge Scientific Abstracts (streszczenia inżynierii środowiska, streszczenia bioinżynierii) i VINITI Abstracts Journal.

Redaktorzy Naczelni

Redaktor Lata Instytucja
Prof. Noah Hershkowitz 1992 - 2007 Uniwersytet Wisconsin-Madison
Prof. Marek J. Kushner 2007 - 2013 Michigan Instytut Nauki i Inżynierii Plazmy, Uniwersytet Michigan
Profesor Bill Graham 2013 - 2017 Queen's University w Belfaście
Prof. Uwe Czarnetzki 2017 - obecnie Uniwersytet Ruhry w Bochum

Linki zewnętrzne