Silseskwioksan wodoru
Wodorosilseskwioksan(y) (HSQ, H-SiO x , T H n , H-żywica) są związkami nieorganicznymi o wzorze empirycznym [HSiO 3/2 ] n . Sześcienny H 8 Si 8 O 12 (TH 8 ) jest używany jako wizualna reprezentacja HSQ. TH 8 , TH 10 , TH 12 i TH 14 zostały scharakteryzowane przez EA ) , chromatografia gazowa - spektroskopia mas ( GC-MS ), spektroskopia IR i spektroskopia NMR .
HSQ klasy półprzewodnikowej o wysokiej czystości został zbadany jako materiał oporowy w fotolitografii i litografii z wiązką elektronów (e-beam) . HSQ jest zwykle dostarczany w ketonie metylowo-izobutylowym ( MIBK ) i może być używany do tworzenia filmów o grubości 0,01–2 µm na podłożach / płytkach. Po wystawieniu na działanie elektronów lub ekstremalnego promieniowania ultrafioletowego ( EUV ), HSQ sieciuje się poprzez wydzielanie wodoru , któremu towarzyszy sieciowanie wiązań Si-O . Wystarczająco dozowane i odsłonięte obszary tworzą tlenek bogaty w Si o niskiej stałej dielektrycznej (niski k), który jest odporny chemicznie / nierozpuszczalny w stosunku do wywoływaczy, takich jak wodorotlenek tetrametyloamoniowy ( TMAH ). Wzornictwo poniżej 10 nm jest osiągalne dzięki HSQ. Możliwości modelowania w nanoskali i niski k wytwarzanego tlenku bogatego w Si mają potencjalnie szeroki zakres zastosowań i urządzeń nano.
HSQ był dostępny jako 1 i 6% (% wag.) roztwory MIBK firmy Dow Inc. (formalnie Dow Corning), o nazwach odpowiednio XR-1541-001 i XR-1541-006. HSQ w MIBK ma krótki termin przydatności do spożycia. Alternatywnie, Applied Quantum Materials Inc. (AQM) produkuje HSQ o dłuższym okresie przydatności do spożycia. , rozwiązania AQM HSQ są dostępne w Stanach Zjednoczonych w firmie DisChem, Inc.
Dalsza lektura
- Chen, Huiping; Tecklenburg, Ron E. (październik 2006). „Charakterystyka wodorowych silseskwioksanów o niskiej i średniej masie cząsteczkowej metodą spektrometrii mas” . Dziennik Amerykańskiego Towarzystwa Spektrometrii Mas . 17 (10): 1438–1441. doi : 10.1016/j.jasms.2006.06.010 . ISSN 1044-0305 . PMID 16872839 . S2CID 3674845 .
- Frye, Cecil L.; Collins, Ward T. (1970-09-01). „Oligomeryczne silseskwioksany, (HSiO3/2) n” . Dziennik Amerykańskiego Towarzystwa Chemicznego . 92 (19): 5586–5588. doi : 10.1021/ja00722a009 . ISSN 0002-7863 .